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《論表面分析及其在材料研究中的應用》
出版社 科學技術文獻出版社
ISBN 9787502338602
分類 自然科學 > 化學 > 應用化學
價格 HK$98.00
 
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本書論述的現代表面分析,指光子(X射線,紫外射線和同步回旋加速器輻射等)、帶電粒子(電子、離子等)和(電、力)場等與材料表面相互作用後,表面<3.0 納米以內產生的各種譜學如XPS、AES、UPS、XPD、EELFS能譜、SIMS質譜STM與AFM。在論述各種現代表面分析原理基礎上,系統總結實際應用的先進技術和經驗,重點撰寫它們在不同材料、電子發射體、摩擦潤滑劑、微電子集成電路、鋼鐵及有色金屬、陶瓷體、外延薄膜、納米粒子等表面組成、價態和結構的定性、定量分析中的應用。

本書可供從事表面分析、材料研製和開發的工作者以及學習表面科學和新材料學科的本科生、研究生閱讀。

第一章 表面分析技術原理和儀器

第二章 XPS 技術及其分析要點

第三章 X 射線光電子能譜(XPS)半定量分析

第四章 角分解(辨)X 射線光電子能譜和光電子衍射(XPD)

第五章 XPS 應用

第六章 光電子能譜在固體能帶結構研究中的應用

第七章 俄歇電子能譜及其應用

第八章 表面分析在電子發射體研究中的應用

第九章 XPS 和 AES 在半導體材料科學中的應用

第十章 低能背散射電子的結構性表面研究

第十一章 二次離子質譜

第十二章 原子探針(AP)--場離子顯微鏡(FIM)及其應用

第十三章 電子能譜及二次離子質譜在材料科學中的應用

第十四章 電子能譜儀技術的新進展

第十五章 超高真空掃描隧道顯微鏡(UHVSTM)

第十六章 掃描力顯微鏡 SFM

第十七章 表面分析技術(XPS、UPS、AES)在吸附和材料研究中的應用

第十八章 XPS、AFM 在高分子研究中的應用

第十九章 表面分析在金剛石薄膜研究中的應用

參考文獻


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